Servicios
Seleccione Servicio y Unidad
- Servicio
- SERVICIO DE ANÁLISIS Y DETERMINACIÓN DE ESTRUCTURAS
- Unidad
- ESPECTROSCOPÍA FOTOELECTRÓNICA DE RAYOS X
[XPS]
Fuentenueva. Sede Central
- EQUIPO
- Espectrómetro de Fotoelectrones de Rayos-X Kratos Axis Ultra-DLD, compuesto de:
- Cámara de análisis con accesorio de calentamiento (hasta 600 ºC) y enfriamiento (hasta -150 ºC) de las muestras.
- Fuente de rayos-X de doble ánodo (Mg/Al). Potencia 450 W.
- Monocromador Al Kα. Potencia 600 W.
- Manipulador de muestras automático de alta precisión (x, y, z, θ).
- Cámara de admisión de muestras.
- Analizador hemisférico de electrones conectado a un detector DLD (delay-line detector).
- Cañón de iones con entrada de gas integrada (Ar) para decapado y desbastado de superficies.
- Fuente de electrones para neutralización de cargas.
- Sistema de video-microscopio.
- Sistema de generación y medida de ultra alto vacío (10-10 Torr) compuesto de bomba turbomolecular (cámara de admisión) y bomba iónica con bomba de sublimación de titanio (cámara de análisis).
- Computador y Software para adquisición y procesado de datos.
- Técnicas
- XPS (X-ray Photoelectron Spectroscopy). Permite el análisis de una región de la muestra (300 µm x 700 µm de área) o de un punto determinado (110 µm, 55 µm, 27 µm o 15 µm de diámetro).
- El equipo dispone de un cañón de iones que permite combinar su elevada sensibilidad superficial con el ataque iónico (ion-etching), de manera que se obtiene la composición química en función de la profundidad (depth profiles). Esta técnica también se utiliza para realizar limpiezas superficiales
- La técnica ARXPS (Angle-Resolved XPS) permite analizar la composición superficial de una muestra con resolución angular.
- El modo map permite obtener mapas superficiales rastreando una energía determinada.
- El equipo dispone de un cañón de iones que permite combinar su elevada sensibilidad superficial con el ataque iónico (ion-etching), de manera que se obtiene la composición química en función de la profundidad (depth profiles). Esta técnica también se utiliza para realizar limpiezas superficiales
- Aplicaciones
- Análisis químico de superficies. Identificación de todos los elementos presentes (excepto H y He). Determinación cuantitativa de la composición elemental de la superficie.
- Obtención de información acerca del entorno molecular: estado de oxidación, átomos enlazantes, etc.
- Realización de perfiles de profundidad.
- Realización de limpiezas superficiales.
- Análisis de aislantes.
- Caracterización de recubrimientos.
- Caracterización superficial de catalizadores.
- Caracterización de láminas delgadas.
- Caracterización de polímeros.
- Estudios de oxidación, corrosión o degradación de un material.
- Obtención de información acerca del entorno molecular: estado de oxidación, átomos enlazantes, etc.
Técnico Responsable
Buscador de servicios
Últimas noticias
19/04/2018
Novedad Unidad XRF
18/04/2018
Avería en la Unidad ICPOES
08/03/2018
NUEVA - Avería en la Unidad AFM
23/02/2018
Nueva Unidad CAA del CIC
24/11/2017
Nueva Unidad LEB del CIC
15/11/2017
Unidad XRF fuera de servicio
07/09/2017